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靶材的一些主要分类你知道吗?

发表时间:2022-07-08  |  访问量:113
   靶材是制备薄膜的主要材料之一,主要用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等,对材料纯度和稳定性要求高。溅射靶材的原理如下:
  溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体即为溅射靶材。
  靶材的发展趋势是高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高纯金属。一般按照不同应用领域可分为半导体靶材、磁记录靶材、光记录靶材、显示靶材和其他应用靶材。
  半导体靶材主要包括电极、布线薄膜、储存器电极薄膜、粘附薄膜、电容器绝缘膜薄膜(锆钛酸铅靶材等);
  磁记录靶材主要包括垂直磁记录薄膜、硬盘用薄膜、薄膜磁头、人工晶体薄膜(钴铂合金靶材,钴钯合金靶材等);
  光记录靶材主要包括相变光盘记录薄膜、磁光盘记录薄膜、光盘反射薄膜、光盘保护薄膜(氮化硅靶材,氧化硅靶材,硫化锌靶材等);
  显示靶材主要包括透明导电薄膜、电极布线薄膜、电致发光薄膜(硫化锌掺锰靶材,硫化锌掺铽靶材,硫化钙掺铕靶材,氧化钇靶材,氧化钽靶材,钛酸钡靶材等);
  其他应用靶材主要包括装饰薄膜、低电阻薄膜、超导薄膜、工具镀薄膜(氮化物靶材,碳化物靶材,硼化物靶材,铬靶材,钛靶材,钛铝合金靶材,锆靶材,石墨靶材等)。
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