镀膜仪的一般原理如何？

　　真空电弧离子的原理是基冷阴极自持弧光放电结合脉冲技术及磁控溅射技术，使沉积粒子细化，膜层的各项性能得以提高。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面制品上进行镀膜，可以镀金属膜、氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬、及钛、镍、铬、铜、等化合物膜、多层超硬膜、氮化钛掺金膜和合金膜，并能在极短的时间内完成全部加工工艺过程，是一种多功能高效镀膜设备。

　　为了实际实现状态反馈控制规律，必须采用可直接测量的控制对象输入与输出，根据镀膜仪建立确定状态的动态系统，称其为观测器。由输出确定控制规律本身的动态系统称为动态补偿器。

　　基于状态方程式进行控制系统设计的主要特点之一是在确定控制规律后，独立进行这种状态估计器的设计。也就是说，除了控制对象的构造之外，都是利用算法计算求出来的。这样就构成了既包含外部环境在内的控制对象，又能使闭环稳定且能跟踪目标值的系统。但镀膜仪厂家的设计人员感到困难的问题是在给出具体设计指标后，究竟利用评价函数还是利用极点配置的方法问题。

　　为解决这个问题，通常是改变评价函数，再根据控制系统特性的变化，寻求出*评价函数，对此需要反复进行几次才行。

　　镀膜仪的系统控制往往采用阶梯状或块状的线性自由系统输出来表达外干扰和目标值的形式。因此，在现代控制理论中，特别是将这种控制系统称为“伺服系统”。这种伺服系统的设计建立包含有干扰和目标值等控制对象的外部环境模型，对于与控制对象组合的全系统，寻求状态反馈规律。