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徕卡高真空镀膜仪的主要构成讲解

时间:2020-05-27 点击次数:204
   徕卡高真空镀膜仪是磁控溅射、多弧离子、蒸发镀膜的混合性设备,是在多弧离子镀膜机的基础上装备圆柱靶或平面磁控靶,设备具有离子镀的高离化率、高堆积速度的特色,一起也具有磁控溅射低温、安稳的长处,适合镀各种复合膜。
  徕卡高真空镀膜仪主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜(控制电柜、电子枪电枢)组成,其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。在防止油污染和缩短工作周期等方面具有有效的性能。
  徕卡高真空镀膜仪的主要结构讲解:
  1.蒸腾与磁控溅射的混合设备:多功能,合适量产,适应性强。
  2.磁控溅射与多弧离子镀的混合运用:多弧能够进步炮击清洗质量,添加薄膜与基材结合力。与磁控溅射一起作业可镀制复合膜(高能离子源清洗活化,成膜速度快)。
  3.多对中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混合运用:中频靶更安稳(Al),离化率高、堆积速率快、成膜均匀。中频反应溅射如镀制Si02、TiO2,一起镀多层不一样原料簿膜。
  4.射频、直流、中频、柱弧的混合运用:射频能够直接镀制绝缘保护膜如SiO2/Ag/SiO2。
  5.圆柱弧、中频、多弧的混合运用:柱弧确保高离化率的一起,削减大颗粒堆积的份额,到达有好的结合力又有较好表面光洁度的作用。真空镀膜机适用中高层次商品如表带、表壳、眼镜框、手机壳、高尔夫球具、卫浴洁具、饰品等。

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