徕卡高真空镀膜仪的主要构成讲解

　　徕卡高真空镀膜仪主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜（控制电柜、电子枪电枢）组成，其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。在防止油污染和缩短工作周期等方面具有有效的性能。

　　徕卡高真空镀膜仪的主要结构讲解：

　　1.蒸腾与磁控溅射的混合设备：多功能，合适量产，适应性强。

　　2.磁控溅射与多弧离子镀的混合运用：多弧能够进步炮击清洗质量，添加薄膜与基材结合力。与磁控溅射一起作业可镀制复合膜（高能离子源清洗活化，成膜速度快）。

　　3.多对中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混合运用：中频靶更安稳（Al），离化率高、堆积速率快、成膜均匀。中频反应溅射如镀制Si02、TiO2，一起镀多层不一样原料簿膜。

　　4.射频、直流、中频、柱弧的混合运用：射频能够直接镀制绝缘保护膜如SiO2/Ag/SiO2。

　　5.圆柱弧、中频、多弧的混合运用：柱弧确保高离化率的一起，削减大颗粒堆积的份额，到达有好的结合力又有较好表面光洁度的作用。真空镀膜机适用中高层次商品如表带、表壳、眼镜框、手机壳、高尔夫球具、卫浴洁具、饰品等。