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离子研磨的主要技术原理说明

时间:2021-07-09 点击次数:19
  离子研磨设备是一种用于材料科学领域的仪器,可用于SEM、EPMA和SAM的样品制备,它可以制备软的、硬的和复合材料的样品,损伤、污染和变形可以控制得非常小。依靠离子束轰击制备样品剖面,观察范围大、清洁而且适用于几乎所有材料。
 
  离子研磨设备可一步制备出镜面样品。它几乎可以适用于各种材料,包括难以抛光的软材料,如铜、铝、金、焊料和聚合物等;以及难以切割的材料,如陶瓷和玻璃等。配套的高级CCD显微镜,可以准确地把样品定位在几个微米大小的剖面位置上。制备过程中,自动控制样品摇摆,以避免产生表面划痕。由于离子束水平入射、氩离子不会渗入样品表面。
 
  由于机械加工导致的样品表层边缘遭到破坏且所积累的残余应力无法得到释放,最终造成无法获得样品表层纳米梯度强化层真实精准的原位力学性能。离子研磨系统可以无应力的去除样品表面层,加工出光滑的镜面。兼容平面和截面两种加工方式,为相关检测的样品制备提供了最为有效的解决方案。
 
  离子研磨技术是利用通过电场加速过的离子轰击样品表面,在样品表面产生溅射效应,由此制备尺度为毫米级别的平滑表面的研磨方法。氩气属于惰性气体,基本不会和样品发生化学反应,因此通常我们采用Ar作为离子源轰击样品。

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