镀膜仪上常见污染物的清洁说明

 　　真空镀膜仪以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击材料外表，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额，产额越高溅射速度越快，以Cu，Au，Ag等高，Ti，Mo，Ta，W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电发生，在10-1-10 Pa真空度，在两极间加高压发生放电，正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。