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镀膜仪上常见污染物的清洁说明

时间:2021-08-03 点击次数:140
   真空镀膜仪以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击材料外表,使其溅射出进入气相,可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额,产额越高溅射速度越快,以Cu,Au,Ag等高,Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电发生,在10-1-10 Pa真空度,在两极间加高压发生放电,正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材,而镀至被镀物上。

  真空镀膜仪为何要进行定期的清洗?
 
  镀膜仪使用时间久了之后要定期进行清洗。在真空镀膜仪使用镀膜材料进行镀膜之前,对镀膜材料做简单的表面清洁能延长镀膜仪使用寿命,因为各种污染物不仅使真空系统不能获得所要求的真空度,还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。
 
  真空镀膜仪的常见的污染物包括:
 
  1.油脂(包括加工、装配、操作的时候沾染上的润滑剂、切削液、真空油脂等);
 
  2.操作时候的手汗,吹气的时候的水汽和唾液等等;酸、碱、盐类物质清洗时的残余物质、手汗、水中的矿物质等;还有抛光残渣及环境空气中的尘埃和其它有机物。
 
  清洁好这些污染物的目的是为了改进真空镀膜仪的工作稳定性,使镀膜仪的工作可以更顺利的进行。

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